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反应式等离子体镀膜设备 (RPD)

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反应式等离子体镀膜设备 (RPD)

  技术特点 Features  

· 具有低温与低轰击特性的RPD 装备是沉积各种薄膜时能保护钙钛矿吸收层的最佳利器。

· 直线式RPD 装备能保持在真空环境下连续沉积钙钛矿所需各种ITO/IWO/ICO/Cu/SnO2 薄膜而不接触大气。

· 模块化的RPD 装备可以与钙钛矿吸收层ABX3 共蒸镀、NiO 磁控溅射相配套来节约钙钛矿元件开发的试验成本。

· 各种冷阱、相邻镀膜腔工艺气氛隔绝与加热器等选项,可以让客户发挥更多的钙钛矿薄膜组合与接面特性分析。

· RPD 镀膜适合钙钛矿、异质结太阳能电池、微型发光二极管与量子点显示器等的各种薄膜制备。